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因此,何证对光电极晶面进行修饰以降低电荷复合,对于进一步提高其PEC性能至关重要
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关进(h)不同光强下的响应度和EQE曲线。病院病(b-c)不同应变力下对应的光电流和响应度。
何证现任ScienceBulletin期刊材料学副主编与Nanotechnology的光电sectioneditor。明自(b-c)所选的用于制造vdWH的2DWS2薄片和1DCsPbBr3纳米线的光学显微照片。